| Titre : | Caractérisation et nettoyage du silicium : caractérisation physico-chimique et nettoyage par voie humide | | Type de document : | texte imprimé | | Auteurs : | Annie Baudrant, Metteur en scène, réalisateur | | Editeur : | Paris : Hermès science publications | | Année de publication : | 2003 | | Collection : | Traité EGEM | | Sous-collection : | Electronique et micro-électronique | | Importance : | 192 p. | | Présentation : | ill. | | Format : | 24 x 16 cm | | ISBN/ISSN/EAN : | 978-2-7462-0605-2 | | Prix : | 60 EUR | | Note générale : | Bibliogr. Index
| | Langues : | Français (fre) | | Mots-clés : | microélectronique circuits intégrés conception et construction silicium substrats | | Index. décimale : | 005.82 | | Résumé : | Passe en revue les étapes élémentaires de la fabrication de composants micro-électroniques : nettoyage, dépôt métallique, dépôt de couche diélectrique, oxydation, dopage, gravure, lithographie. Présente les techniques de caractérisation, indispensables pour juger de la qualité des procédés. Pour chaque étape, sont détaillés le procédé, les équipements et la physique des techniques.
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Caractérisation et nettoyage du silicium : caractérisation physico-chimique et nettoyage par voie humide [texte imprimé] / Annie Baudrant, Metteur en scène, réalisateur . - Paris : Hermès science publications, 2003 . - 192 p. : ill. ; 24 x 16 cm. - ( Traité EGEM. Electronique et micro-électronique) . ISBN : 978-2-7462-0605-2 : 60 EUR Bibliogr. Index
Langues : Français ( fre) | Mots-clés : | microélectronique circuits intégrés conception et construction silicium substrats | | Index. décimale : | 005.82 | | Résumé : | Passe en revue les étapes élémentaires de la fabrication de composants micro-électroniques : nettoyage, dépôt métallique, dépôt de couche diélectrique, oxydation, dopage, gravure, lithographie. Présente les techniques de caractérisation, indispensables pour juger de la qualité des procédés. Pour chaque étape, sont détaillés le procédé, les équipements et la physique des techniques.
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